第一百零三章 压力还在光刻机上
蓬号人提示您:看后求收藏(第一百零三章 压力还在光刻机上,拿命搞科研,全网跪求我休息,蓬号人,笔趣阁),接着再看更方便。
请关闭浏览器的阅读/畅读/小说模式并且关闭广告屏蔽过滤功能,避免出现内容无法显示或者段落错乱。
“起了。”王宏叫醒林禹,“走,吃早饭去。”
林禹迷迷瞪瞪地穿好衣服,跑到盥洗室用冷水拍了一下脸,瞬间清醒过来。
洗漱完毕,林禹拿起U盘,“走。”
“想吃什么?”
“两份煎饼果子。”林禹有点想念果蓖儿的都那种酥脆感了。
“你不是上京人嘛?怎么爱吃这个?”
“你管那么多干嘛?”
两个人边斗嘴一边走进食堂。
“我想去你们发动机组看看。”林禹接过阿姨递过来的两份煎饼果子。
“你真有想法了?”王宏盯着林禹想要从他脸上看出花来,转头跟阿姨要了一份豆浆油条。
“还没有,但是我觉得以后会有。”
“你是特聘顾问,应该可以和苏总申请。”
“等我把我本职的材料搞定我就去看看。”
“我记得你说过你是要做氧化镓材料,但是氧化镓不应该是半导体材料吗?怎么会想到去做烧蚀材料呢?”王宏很疑惑,他昨天就询问了材料组的研究员有关氧化镓这种材料。
“氧化镓的熔点在1740摄氏度,它的耐热度已经算不错了,估计是想要我看看能否找到一种和氧化镓相匹配的复合材料基体,从而找到一种新型的烧蚀材料,或者说以氧化镓为基体添加不同的材料制成一种新烧蚀材料。”
“就算不能作为烧蚀材料,作为一种极耐高温的半导体材料,用来做控制航天火箭的集成电路芯片也可以。”
林禹顿了顿,说出他在系统实验室里的结论:“氧化镓可以作为一种陶瓷基材料,我觉得是有很大的利用空间。”
是的,林禹已经根据系统的资料推断了出来,氧化镓是可以作为喷涂在一些关键部位的涂料而存在的。
但是对于它是否能够作为隔热保护层的烧蚀材料,这一点还需要实验进一步的验证。
而且实验室里也没法模拟出超高温环境,就算是大毛国和米国的顶配实验室也没做到4000摄氏度高温的环境,所以碳氧化铪的高温试验一直停留在3600摄氏度左右,而碳氧化铪这种材料的理论熔点和可承受温度在4200摄氏度左右。
“那就祝你旗开得胜!”王宏端起豆浆举了一下。
吃过早餐,两个人来到实验楼,林禹打算先去找苏院士,把昨天熬夜搞出来的论文交上去,而王宏则是直接到他所在的小组过去。
“苏院士”,林禹来得还挺早,苏院士正在办公室里喝茶。
本章未完,点击下一页继续阅读。